【信息分享】技术需求揭榜挂帅丨【NO.004】曝光显影的技术开发
技术需求:曝光显影的技术开发
(搜需求库NO.1301)
公司主要从事光电玻璃、精密电子零部件的研发、生产和销售,已引进国际先进的设备和技术,为客户提供高精度、高质量的光电玻璃和高精度的电子零部件,并拥有自主经营出口权,能积极响应国际市场需求。
为了在屏显盖板领域开辟新赛道,公司目前正重点推进曝光显影技术的开发。曝光显影是屏显盖板(尤其是功能型盖板)制造的关键前置工艺,直接影响产品性能:例如防窥盖板的微结构阵列、车载盖板的防眩光纹理、折叠屏盖板的柔性电路匹配图案等,都需要通过该工艺实现精准蚀刻与成型。
公司员工超400人,其中科技人员达40-50人,是国内少数具备3A一体化(研发、生产、加工)能力的企业,也是美国康宁公司车载A-RGF智能屏显盖板在中国大陆的重要供应商。公司已在新三板挂牌,目前正积极筹备于2026年6月在北京科创板上市。产品广泛应用于国内外头部汽车品牌,包括宝马、奔驰、特斯拉、理想等。
公司高度重视技术研发与产学研合作,与苏州大学共建博士后工作站,并与常熟理工学院、苏州科技大学等高校开展稳定合作。为持续增强竞争力,公司计划于明年3月启动新产线,并希望在近期内与相关领域优质单位建立技术研发合作关系,共同推进该项技术攻关与产业化应用。
1.技术壁垒:曝光显影的“线宽控制”(高端产品需≤3μm)、“图案均匀性”(全版面误差≤0.5μm)依赖算法与设备校准,国际厂商(如日本Fujifilm、德国海德堡)垄断核心技术,国内企业多处于跟跑阶段;2.量产难题:实验室技术转化为量产时,易出现“显影残留”、“曝光过度/不足”等问题,良率控制难度大(行业中端产品良率约70-80%,高端仅50-60%);3.供应链绑定:下游终端厂商(如京东方、华为、比亚迪)对屏显盖板供应商的“工艺认证周期长”(通常1-2年),需提前匹配客户的产品规格,定制化开发压力大。
曝光显影
50-100万元
1.设备协同:企业引进的曝光显影设备(如UV曝光机、显影槽、清洗设备)可与现有光电玻璃加工产线(切割、研磨、镀膜)实现无缝衔接,无需重构生产线,降低初期投入;
2.品质协同:现有的“高精度、高质量”的生产管控体系(如无尘车间、品质检测标准),可直接复用至屏显盖板的曝光显影环节(该工艺对环境洁净度、温湿度控制要求极高),降低试错成本;
3.研发协同:在光电玻璃领域积累的透光率、平整度控制等技术经验,可直接反哺曝光显影工艺(比如玻璃基材的透光率直接影响曝光能量控制,现有技术积累能快速优化工艺参数)。
技术开发
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来源:吴江科技



